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  • 光学镀膜材料包括那些内容

    光学镀膜材料包括那些内容?下面就简单的为大家介绍一下靶材的基本信息。  光学镀膜,影响一面平面透镜的透光度有许多成因。镜面的粗糙度会造成入射光的漫射,降低镜片的透光率。此外材质的吸旋光性,也会造成某些入射光源的其
    发布时间:2016-03-29   点击次数:100

  • 靶材的种类及应用领域介绍

    靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应。例如:蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜...铝膜等。更换不同的靶
    发布时间:2016-03-29   点击次数:138

  • 高品质真空镀膜材料(4N-5N)

    1.氧化物:一氧化硅靶材,SiO靶材,二氧化硅靶材,SiO2靶材,二氧化钛靶材,TiO2靶材,二氧化锆靶材,ZrO2靶材,二氧化铪靶材,HfO2靶材,一氧化钛靶材,TiO靶材,五氧化三钛靶材,Ti3O5靶材,五氧化二铌靶材,Nb2O5靶材,
    发布时间:2016-03-29   点击次数:88

  • 采购靶材的注意事项

    (1) density,这个是最主要的,好的靶密度至少达到97%以上,所以大家买回靶来以后可以根据重量体积来计算一下 你们的靶的密度和理论块体的密度的比例有多少,低于90%的退货。  (2) 开裂问题,套磁靶很容易开裂,所以大家一定要求用c
    发布时间:2016-03-29   点击次数:238

  • 全球靶材市场的基本情况总结

    目前全球各主要靶材制造商的总部,大多设立在美国、德国和日本。就美国而言.约有50家中小规模的靶材制造商及经销商,其中最大的公司员工大约有几百人。不过为了能更接近使用者,以便提供更完善的售后服务,全球主要靶材制造商
    发布时间:2016-03-29   点击次数:639

  • 真空溅射靶材的信息介绍

    真空溅射靶材的信息介绍,帮助大家更好的了解靶材行业的知识。  靶材技术指标:纯度:3-4N主要成分:ZnO:Al2O3=97:3[可根据用户要求调整Al2O3掺杂比(0-4)wt%]相对密度:d≥98%理论密度:ρ=5
    发布时间:2016-03-29   点击次数:110

  • 靶材在真空电镀中的用途

    靶材的作用很多,而且市场发展空间较大,它在很多领域都有很好的用途。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,  提高溅镀速率。一般金属镀膜大
    发布时间:2016-03-29   点击次数:125

  • 磁控溅射靶材的运作过程

    磁控溅射靶材的运作过程很多人不不太清楚,对磁控溅射靶材的工作内容也不了解,下面就为大家简单的介绍一下。磁控溅射的基本原理是利用Ar一02混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下,被加速的高能粒子轰击靶材表面
    发布时间:2016-03-29   点击次数:146

  • 磁控溅射技术如何分类?

    可以分为直流磁控溅射法和射频磁控溅射法。  直流溅射法要求靶材能够将从离子轰击过程中得到的正电荷传递给与其紧密接触的阴极,从而该方法只能溅射导体材料,不适于绝缘材料,因为轰击绝缘靶材时表面的离子电荷无法中和,这将导致靶面电位升高
    发布时间:2016-03-29   点击次数:197

  • 真空镀膜靶材中毒现象及处理方法

    第一:靶面金属化合物的形成。由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中,化合物是在哪里形成的呢?由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子,通常是放热反应,反应生成热必须有传导出去的途径,否则,该化学反应无法继续进行。
    发布时间:2016-03-29   点击次数:190

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