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  • 磁控溅射靶材的原理介绍

    磁控溅射原理:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次
    发布时间:2016-03-29   点击次数:355

  • 未来ITO靶材发展趋势

    未来ITO靶材发展大致有以下的趋势:  1.降低电阻率。随着LCD愈来愈精细化发展的趋向,以及它的驱动程序不同,需要更小电阻率的透明导电膜。  2.高密度化。靶材密度的改善直接带来的益处主要表现在减少黑化和降低电阻率方面。靶材若为低密度时,
    发布时间:2016-03-29   点击次数:296

  • 靶材的主要性能要求介绍

    靶材的市场广阔,应用范围大,未来发展较大,为了帮助大家更多的了解靶材的性能,下面我们就为大家简单的介绍一下靶材的主要性能要求,希望对大家有所帮助。  纯度:纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影
    发布时间:2016-03-29   点击次数:400

  • 溅射靶材磁控溅射原理

    溅射靶材磁控溅射原理:  在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),永久磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。  在电场的作用下,Ar气电离成正
    发布时间:2016-03-29   点击次数:61

  • 高纯铝溅射靶材行业的发展情况

    高纯铝溅射靶材行业的发展情况。随着电子新材料行业的快速发展,以高纯铝为基础的电子新材料产品(包括靶材)需求将保持高速增长。十一五期间,我国“国家高技术研究发展计划(863计划)新材料技术领域“大尺寸超高纯铝靶材的
    发布时间:2016-03-29   点击次数:90

  • 溅射靶材的应用领域

    溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。  信息存储产业:随着IT产业的不断发展,世界对记录介质的需求
    发布时间:2016-03-29   点击次数:67

  • 磁控溅射靶材行业的发展规律

    如果靶材是磁性材料,磁力线被靶材屏蔽,磁力线难以穿透靶材在靶材表面上方形成磁场,磁控的作用将大大降低。因此,溅射磁性材料时,一方面要求磁控靶的磁场要强一些,另一方面靶材也要制备的薄一些,以便磁力线能穿过靶材,在靶面
    发布时间:2016-03-29   点击次数:77

  • 讲解溅射靶材脱钛剂的效果

    靶材的应用范围广阔,市场发展空间巨大,脱钛剂结合PVD镀膜的特点而生产的一种高效环保无毒退膜药水。  脱钛剂由于具有无毒﹑环保的特点,所以绝不伤害电镀保护漆与基体,并迅速剥离IP涂层,起到了良好的分色效果。它主要
    发布时间:2016-03-29   点击次数:72

  • 讲解溅射靶材中频磁控溅射的知识

    磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电子交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出溅射靶材。在近
    发布时间:2016-03-29   点击次数:113

  • 磁控溅射靶材的种类介绍

    溅射靶材:金属溅射镀膜靶材,合金溅射镀膜靶材,陶瓷溅射镀膜靶材,硼化物陶瓷溅射靶材,碳化物陶瓷溅射靶材,氟化物陶瓷溅射靶材,氮化物陶瓷溅射靶材,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷溅射靶材,硅化物陶瓷溅射靶材,硫化物陶瓷溅射靶材,碲化物陶瓷
    发布时间:2016-03-29   点击次数:105

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