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公司新闻

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  • 2017年上海半导体展

    北京普瑞新材于2017年3月14日参加了上海半导体展,在展会上与很多同行业公司达成了良好的合作意向,我们将继续努力为客户提供周到全面的各种金属材料服务。
    发布时间:2017-03-14   点击次数:410

  • 庆祝普瑞新材成立十周年

    热烈庆祝北京普瑞新材科技有限公司成立十周年,为感谢新老员工对公司的辛勤付出,公司于6月18、19日两天组织员工去黄花城水长城游玩并在长城脚下农家院聚餐。普瑞新材全体员工深切认识到生产是
    发布时间:2016-06-10   点击次数:471

  • ITO靶材基本知识讲解

    ITO材料是一种n型半导体材料,该种材料包括ITO粉末、靶材、导电浆料及ITO透明导电薄膜。其主要应用分为:平板显示器(FPD)产业,如液晶显示器(LCD)、薄膜晶体管显示器(TFT-LCD)、电激发光显示器(EL)、场发射显示器(FED)
    发布时间:2016-03-29   点击次数:201

  • 真空镀膜和光学镀膜区别

    真空镀膜主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜
    发布时间:2016-03-29   点击次数:179

  • 溅射靶材磁控溅射的原理

    磁控溅射原理:在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,溅射靶材在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),永久磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。  在电场
    发布时间:2016-03-29   点击次数:258

  • 磁控溅射靶材的原理介绍

    磁控溅射原理:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次
    发布时间:2016-03-29   点击次数:397

  • 未来ITO靶材发展趋势

    未来ITO靶材发展大致有以下的趋势:  1.降低电阻率。随着LCD愈来愈精细化发展的趋向,以及它的驱动程序不同,需要更小电阻率的透明导电膜。  2.高密度化。靶材密度的改善直接带来的益处主要表现在减少黑化和降低电阻率方面。靶材若为低密度时,
    发布时间:2016-03-29   点击次数:363

  • 靶材的主要性能要求介绍

    靶材的市场广阔,应用范围大,未来发展较大,为了帮助大家更多的了解靶材的性能,下面我们就为大家简单的介绍一下靶材的主要性能要求,希望对大家有所帮助。  纯度:纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影
    发布时间:2016-03-29   点击次数:457

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